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                  胶体磨的改进结构设计和增设现代控制技术
                  日期:2012/12/16 查看:29074

                        改进结构设计和增设现代控制技术方面:
                        A、在调节盘后方和静磨片前面设置活动垫圈,替代传统的平面、轴承滑动作用,减少调节盘活动公差,并且在无润滑油的情况下,增强调节盘的调节灵巧,结构简单、精度高,稳定好。
                        B、胶体磨的转子、定子采用锥形设计一体化,同时本机器采用定位盘定位结构,使转子、定子的间距调节进退平稳,操作简便,能够达到迅速到位。

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